2024년 SK 하이닉스의 가장 큰 성장 동력의 근원은 HBM(고대역폭메모리) 반도체이고, 해당 HBM 반도체 공정의 필수 장비인 '하이브리드 본더'의 독점적 공급자 지위를 한미반도체가 누리고 있습니다. 

하지만, 24년 5월 31일 디일렉의  '한미반도체 독주 끝났다... 한화, HBM용 TC본더 SK하이닉스 첫 공급' 기사에서, 한화정밀기계가 자체 개발한 하이브리드 본더 장비를 SK 하이닉스에 TC본딩 평가용으로 두 대 계약했으며, 하반기 12단 HBM3E 본딩 장비 수주 경쟁은 한미와 한화, ASMPT 3파전으로 치열해질 전망으로 보도했습니다.

이에따라 본 리포트에서는 한화정밀기계의 특허 분석 및 관련 특허들을 확인해보고자 합니다.

한화정밀기계 보유 KR 특허에 대한 출원-공개 동향을 분석합니다.

이 기업의 전체 공개 특허수는 728건입니다. 이 기업의 전체 공개 특허수는 11년 이전부터 발생하기 시작하여 2016년에 73건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 62건, 2년 전인 2022년에는 22건을 보입니다.
참고로 지난 10년 동안의 5년 단위 변화율은 -58.97%, 지난 8년 동안의 4년 단위 변화율은 -40.50%, 지난 6년 동안의 3년 단위 변화율은 25.93%, 지난 4년 동안의 2년 단위 변화율은 140.00%입니다.
다만, 이 값은 2016년부터 4년간 꾸준히 감소하다가, 2020년부터 최근까지 재상승 추세에 있습니다.

개별 기업별 분석 데이터는 링크를 클릭하면 제공되는 웹 페이지에서 개별 기업의 이름을 클릭하여 확인할 수 있습니다.

한화정밀기계 보유 KR 특허에 포함된 주요 키워드 중, 이 분야에서 최근 2년 내에 처음으로 등장하기 시작한 신규 등장 키워드를 분석합니다. 이러한 키워드는 이 기업에 대한 기술 센싱 등의 업무에 활용될 수 있습니다.

한화정밀기계 보유 KR 특허에서 최근 2년 내에 새롭게 출현하고 있는 키워드 중, 제품-부품 관련 신규 등장 키워드 동향을 분석합니다.

공개 특허수가 많은 신규 등장 키워드에는 1위 액체 물질 배출용 노즐(nozzle for discharging liquid material), 2위 보드에 탑재된 전자 부품(electronic component mounted on board), 3위 챔버 수용 웨이퍼(chamber accommodating wafer) 등이 있습니다.

액체 물질 배출용 노즐(nozzle for discharging liquid material)의 공개 특허수는 2건입니다. 액체 물질 배출용 노즐(nozzle for discharging liquid material)의 공개 특허수는 2023년에 2건으로 최초 발생하여, 2023년에 2건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 2건, 2년 전인 2022년에는 0건을 보입니다.

보드에 탑재된 전자 부품(electronic component mounted on board)의 공개 특허수는 2건입니다. 보드에 탑재된 전자 부품(electronic component mounted on board)의 공개 특허수는 2023년에 2건으로 최초 발생하여, 2023년에 2건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 2건, 2년 전인 2022년에는 0건을 보입니다.

한화정밀기계의 급성장 키워드 중 bonding 관련 키워드를 확인해보면, 하이브리드 본딩 관련 키워드들이 다음과 같이 확인 가능합니다.

한화정밀기계의 보유 KR 특허 중 주요 특허를 분석합니다. 주요 특허에는 i) 분쟁에 사용된 특허, ii) 인용을 많이 받은 특허, iii) 최신 공개 특허 등이 있습니다.

한화정밀기계 보유 KR 특허 중 최신 특허를 분석합니다.

한화정밀기계 보유 KR 특허 중 하이브리드 본딩 관련 특허 리스트입니다.

한화정밀기계 보유 KR 특허가 거절시키는데 사용된 i) 후행 특허 보유 기업과 한화정밀기계 보유 KR 특허를 거절시키는데 사용된 ii) 선행 특허 보유 기업을 분석합니다.

한화정밀기계 출원 KR 특허를 대리하는 주요 대리인(특허 로펌)을 분석합니다.

이 기업을 위해 대리한 특허수가 많은 관련 대리인에는 1위 특허법인 가산(172건), 2위 리앤목 특허법인(153건), 3위 특허법인 피씨알(2건)이 있습니다.

특허법인 가산의 대리한 특허수는 172건입니다. 특허법인 가산의 대리한 특허수는 2014년에 1건으로 최초 발생하여, 2017년에 49건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 31건, 2년 전인 2022년에는 5건을 보입니다.
특허법인 가산의 대리한 특허수의 2014년부터 2023년까지, 지난 9년간 연평균 성장률은 0.46%로, 완만하게 증가하고 있습니다.
참고로 지난 10년 동안의 5년 단위 변화율은 -55.46%, 지난 8년 동안의 4년 단위 변화율은 -53.51%, 지난 6년 동안의 3년 단위 변화율은 50.00%, 지난 4년 동안의 2년 단위 변화율은 111.76%입니다.
다만, 이 값은 2017년부터 5년간 꾸준히 감소하다가, 2022년부터 최근까지 재상승 추세에 있습니다.

리앤목 특허법인의 대리한 특허수는 153건입니다. 리앤목 특허법인의 대리한 특허수는 11년 이전부터 발생하기 시작하여 2016년에 35건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 30건, 2년 전인 2022년에는 9건을 보입니다.
참고로 지난 10년 동안의 5년 단위 변화율은 -43.16%, 지난 8년 동안의 4년 단위 변화율은 -28.95%, 지난 6년 동안의 3년 단위 변화율은 0.00%, 지난 4년 동안의 2년 단위 변화율은 160.00%입니다.
다만, 이 값은 2016년부터 5년간 꾸준히 감소하다가, 2021년부터 최근까지 재상승 추세에 있습니다.

한화정밀기계에 이해 관계가 있는 기업의 내부 기능 조직용 질문
1) [기술 전략 조직]/[IP 조직] 한화정밀기계의 각종 특허 동향을 i) 객관적으로 분석하고, ii) 의사 결정자와 관련된 내부 기능 조직에게 전달하여, iii) 우리 회사를 위해 전략적으로 활용해야 하지 않을까요?
2) [IP 조직]/[기술 전략 조직] 한화정밀기계의 특별한 행위(특허 매입, 라이센싱 인 등의 전략적 투자 행위나 소송/심판 등의 분쟁 행위)와 관련된 동향을 인지-분석해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 한화정밀기계에 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 이 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.

본 제안에 관심 있는 기술 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

기업의 내부 기능 조직의 관점에서 특허 분석 데이터를 어떻게 활용해야 할 지에 대해서는 다음 링크를 클릭해 주세요.

한화정밀기계에 관심 있는 (잠재적) 투자자
1) 한화정밀기계에 대한 여러분의 투자에, 이 기업의 최근 특허 매입, M&A를 통한 특허 이전, 라이센싱 등과 객관적인 기술 투자 데이터를 참조해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 그 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.
2) 한화정밀기계가 보유하고 있는 특허가, i) 후속 특허에 의해 많이 인용되고 있는지(기술 영향력), ii) 후속 특허를 거절하는데 다수 사용되고 있는 지(기술 리더십)를 통해서, 이 기업의 기술 역량을 분석해 보세요. 특히, 이러한 동향이 최근에 빠르게 증가하고 있는지도 확인하세요.
3) 한화정밀기계 보유 특허의 i) 특허당 심사관 피인용수, ii) 특허당 거절시키는 후행 특허수 등으로, 이 기업의 특허 포트폴리오가 강력한 지를 확인해 보세요.

본 제안에 관심 있는 투자 관련 기업이나 기관은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

한화정밀기계가 고객이거나 고객의 경쟁 기업인 서비스 기업은,
1) 고객을 위하여, 심도 있는 맞춤형 데이터 분석을 제공해 주고, 추가적인 매출을 일으켜야 하지 않을까요?
2) 고급 분석 콘텐츠를 저렴한 총비용으로 제작하여, 신규 고객을 발굴하는데 활용해야 하지 않을까요?
3) IP 서비스 기업은 차별화된 IP 콘텐츠로, 추가적인 수익원의 발굴이나, 고객 제안을 해야 하지 않을까요?
4) 고객별 맞춤화된 콘텐츠를 극히 저렴하게 생성하여, 주기적/비주기적으로 고객에게 전달하여, 고객과의 커뮤니케이션을 확대해야 하지 않을까요?

본 제안에 관심 있는 서비스 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

한화정밀기계에 관심 있는 미디어
1) 한화정밀기계에 대한 객관성 높은 특허 기술 동향 데이터를 활용하여, 자신의 콘텐츠를 고급화, 전문화, 세분화할 필요가 있지 않을까요?
2) 한화정밀기계의 특허와 관련된 M&A/투자, 특허 매입, 라이센싱, 소송/심판 등의 이벤트 데이터를 활용하여, 경쟁자들의 콘텐츠와 차별화를 해야 하지 않을까요?
3) 한화정밀기계 보유 특허 포트폴리오의 i) 심사관 피인용수, ii) 거절시킨 후행 특허수 등과 같은 계량 지표를 통하여, 이 기업에 대한 여러분의 콘텐츠를 차별화해 보세요.

본 제안에 관심 있는 미디어 업계 종사자는 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

분석 지표에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 지표 계열에는 특허 출원-공개 및 등록을 중심으로 하는 i) 특허 포트폴리오 지표 계열, 피인용(forward citations)을 중심으로 하는 ii) 기술 영향력 계열, 거절(rejection)을 중심으로 하는 iii) 기술 리더쉽 계열, iv) 품질 계열, v) 점유율, 집중률 등과 같은 비율 계열, vi) 특허당 등과 같은 밀도 계열 등이 있습니다.

분석 기준에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 기준에는 i) 분석 방법론, ii) 분석 기준 체계, iii) 분석 집계값의 종류, iv) 분석 시간 기준 등이 있습니다. 중요 분석 기준에는 i) 현재 권리자의 확정, ii) 기술 분야에 대한 인식(기술 분야 vs. 특허셋(patent set) 맵핑 등), iii) 기술 분야나 키워드 표현에 대한 기준, iii) 특허 매입/거래, 소송/심판 등에 대한 기준과 범위, iv) 인용-피인용에 대한 기준과 범위 등이 있습니다.

분석 콘텐츠 제작에 사용된 데이터의 i) 공간(국가의 특허청), ii) 시간 범위 및, iii) 주요 데이터에 대한 원천 소스(original source)는 다음과 같습니다. 분석 콘텐츠를 구성하는 2차적인 데이터(예, 특허 거래 네트워크 등)는 원천 데이터 소스로부터 가공되어 생성됩니다. 개별적인 데이터에 대한 상세한 것은 [링크]를 참조하세요. 링크에 연결되는 페이지에서는 데이터 계열, 데이터 내용 및 기타 분속 콘텐츠에 사용되는 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

*최초 공개일 : 특허 공보가 최초로 발행된 날짜. 공개 공보가 발행되면 공개 공보 발행일, 공개 공보 발행 없이 등록된 경우에는 등록 공보 발행일.

*최근 공개일 : 선행 특허를 인용하는 후행 특허 공보의 최근 발행 날짜. 공개 공보 발행일과 등록 공보 발행일 중 늦은 날짜(인용 관계는 주로 등록 공보에 references cited로 기재되기 때문)

* 최초 거절 OA 발생일 : 특정 특허를 심사하는 심사관이, 특정 선행 특허를 인용하며, 특허 거절에 대한 office action(OA)를 통지하는 경우, 최초로 거절 OA 통지가 발생한 날짜. 심사관은 특정 선행 특허를 인요하며, 1차례 이상의 non-final rejection 또는 final rejection을 통지할 수 있음.

* Assignment 실행일 : 미국에서의 assignment는 실행일(execution date)과 기록일(record date)이 있음. 실행을 통해서 assignment의 법률적 효력이 발생하므로, 실행일을 기준으로 함. (참고)미국을 제외한 다른 나라는 실행일의 개념이 없어, 특허청에 기록된 날을 기준으로 함.

PatentPia가 제공하는 상세한 데이터에 대해서는 [링크]를 클릭해 보세요. 이곳에서는 i) 기반 특허 데이터, ii) 특허 이벤트 데이터, iii) 가공 특허 데이터, iv) Entity(권리자, 발명자, 대리인 등) 데이터, v) 키워드 데이터, vi) 계층형 카테고리 데이터, vii) 특별한 특허 데이터 등 다양한 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

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