마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 US 특허 발명 핵심 연구자별로, 이 분야 특허 발명의 기술 경쟁력을 주요 특허 지표를 기준으로 비교합니다. 특허 지표에는 특허 출원-공개나 등록과 같은 i) 양적 지표, 심사관 피인용과 같은 ii) 기술 영향력 지표, 거절시킨 후행-후속 특허수와 같은 iii) 기술 리더십 지표 등이 있습니다. 이 분야의 연구자별 분석 데이터는 리크루팅/헤드헌팅, 핵심 인재의 발굴과 보호 등과 같은 HR 업무나 비즈니스에 사용될 수 있습니다.

이 분야의 주요 핵심 연구자에는 1위 Loopstra Erik Roelof, 2위 Shibazaki, Yuichi, 3위 Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders 등이 있습니다.
또한 Loopstra Erik Roelof는 발명 특허수(공개 특허수)(240건), 등록 특허수(227건), 공개 특허수 점유율(점유율_공개)(1.36%), 거래 특허수(3건), 소송 특허수(1건), 심사관 피인용수(758회), 심사관 피인용수 점유율(점유율_FC-E)(2.23%), Hiroyuki Nagasaka는 집중률(91.9%), Shibazaki, Yuichi는 해외 특허 패밀리수(해외 Fam.)(1,060개)에서 1위 입니다. Bob Streefkerk는 집중률(90.7%), Butler Hans는 거래 특허수(1건), Kate Nicolaas Ten은 소송 특허수(1건), Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders는 심사관 피인용수(509회), 심사관 피인용수 점유율(점유율_FC-E)(1.5%)에서 2위 입니다. Hoogendam Christiaan Alexander는 집중률(90.5%), Johannes Catharinus Hubertus Mulkens는 심사관 피인용수(493회), 심사관 피인용수 점유율(점유율_FC-E)(1.45%)에서 3위 입니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 분야에 대한 개별 연구별 분석 데이터는 링크를 클릭하면 제공되는 웹 페이지에서 개별 연구자 이름을 클릭하여 확인할 수 있습니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 US 특허 발명 핵심 연구자별로, 이 분야에 얼마나 많은 i) 특허를 발명하고, ii) 소속 조직 내 특허권 점유율은 얼마인지를 분석합니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 US 특허 발명 핵심 연구자별로, 이 분야에 얼마나 많은 발명 특허가 출원-공개되어 있는지를 분석합니다.

이 분야에서 공개된 발명 특허가 많은 핵심 연구자에는 1위 Loopstra Erik Roelof, 2위 Shibazaki, Yuichi, 3위 Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders 등이 있습니다.

이 분야에서 Loopstra Erik Roelof의 공개된 발명 특허는 240건입니다. 이 분야에서 Loopstra Erik Roelof의 공개된 발명 특허는 11년 이전부터 발생하기 시작하여 2015년에 14건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 0건, 2년 전인 2022년에는 0건을 보입니다. 한편, 이 값은 2022년 이래로 발생하지 않고 있습니다.

이 분야에서 Shibazaki, Yuichi의 공개된 발명 특허는 214건입니다. 이 분야에서 Shibazaki, Yuichi의 공개된 발명 특허는 11년 이전부터 발생하기 시작하여 2017년에 17건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 1건, 2년 전인 2022년에는 1건을 보입니다.
참고로 지난 10년 동안의 5년 단위 변화율은 -95.35%, 지난 8년 동안의 4년 단위 변화율은 -93.22%, 지난 6년 동안의 3년 단위 변화율은 -90.00%, 지난 4년 동안의 2년 단위 변화율은 0.00%입니다.
2017년에 17건으로 정점을 찍은 다음, 6년간 전체적으로 감소 추세에 있습니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 US 특허 발명 핵심 연구자별로, 이 분야의 발명 특허가 후속-후행 특허의 심사 시, 그 특허의 특허성(신규성 또는 진보성)을 부정하고, 그 특허를 거절하는데 얼마나 많이 사용되었는지에 대해, i) 거절시킨 후행 특허수(총량), ii) 거절시킨 후행 특허수 점유율(비율), iii) 특허당 거절시킨 후행 특허수(밀도) 등으로 분석합니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 US 특허 발명 핵심 연구자별로, 이 분야의 발명 특허가 사용되어 거절시킨 후행 특허수를 분석합니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 또는 개별 기업에 대한 다양한 특허 거절 분석을 원하는 경우, i) 링크 클릭하여 웹 페이지로 이동 -> ii) 거절과 관련된 메뉴(예, '특허당 거절시킨 후행 특허수') 선택하시면 됩니다.

마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 핵심 기술 인재에 관심있는 사내 인사 조직 또는 HR 컨설팅 기업용 질문
1. 객관적 기술 데이터에 기반한, 마이크로 리소그래피용 노광기 분야의 특허를 발명한 핵심 연구자에 대한 i) 식별(identification) 및 ii) 비교 평가한 데이터를 헤드헌팅/리크루팅이나 핵심 인재의 보호와 발굴 등과 같은 여러분의 HR 프로세스에 활용할 수 있지 않을까요?
2. 객관적 데이터로 여러분의 HR 프로세스를 차별화할 수 있지 않을까요?
3. 차별화된 데이터를 활용하면, 경쟁자들보다 빨리 핵심 인재를 인지하고, 그 사람과 연결될 수 있지 않을까요?
4. 데이터를 지능적으로 활용하면, 고객 기업이 원하는 핵심 인력을 체계적으로 스크리닝 할 수 있지 않을까요?
5. 데이터를 잘 활용하면 신규 고객 기업을 더 잘 발굴할 수 있지 않을까요?
6. 보유하고 있거나 접근 가능한 HR 데이터와 이 분야의 핵심 연구자 데이터를 연계-결합해 보세요.

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발명자/연구자/개발자 데이터 체계, 분석 및 활용에 대한 상세한 것은 다음 링크를 클릭해 주세요.

분석 지표에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 지표 계열에는 특허 출원-공개 및 등록을 중심으로 하는 i) 특허 포트폴리오 지표 계열, 피인용(forward citations)을 중심으로 하는 ii) 기술 영향력 계열, 거절(rejection)을 중심으로 하는 iii) 기술 리더쉽 계열, iv) 품질 계열, v) 점유율, 집중률 등과 같은 비율 계열, vi) 특허당 등과 같은 밀도 계열 등이 있습니다.

분석 기준에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 기준에는 i) 분석 방법론, ii) 분석 기준 체계, iii) 분석 집계값의 종류, iv) 분석 시간 기준 등이 있습니다. 중요 분석 기준에는 i) 현재 권리자의 확정, ii) 기술 분야에 대한 인식(기술 분야 vs. 특허셋(patent set) 맵핑 등), iii) 기술 분야나 키워드 표현에 대한 기준, iii) 특허 매입/거래, 소송/심판 등에 대한 기준과 범위, iv) 인용-피인용에 대한 기준과 범위 등이 있습니다.

분석 콘텐츠 제작에 사용된 데이터의 i) 공간(국가의 특허청), ii) 시간 범위 및, iii) 주요 데이터에 대한 원천 소스(original source)는 다음과 같습니다. 분석 콘텐츠를 구성하는 2차적인 데이터(예, 특허 거래 네트워크 등)는 원천 데이터 소스로부터 가공되어 생성됩니다. 개별적인 데이터에 대한 상세한 것은 [링크]를 참조하세요. 링크에 연결되는 페이지에서는 데이터 계열, 데이터 내용 및 기타 분속 콘텐츠에 사용되는 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

*최초 공개일 : 특허 공보가 최초로 발행된 날짜. 공개 공보가 발행되면 공개 공보 발행일, 공개 공보 발행 없이 등록된 경우에는 등록 공보 발행일.

*최근 공개일 : 선행 특허를 인용하는 후행 특허 공보의 최근 발행 날짜. 공개 공보 발행일과 등록 공보 발행일 중 늦은 날짜(인용 관계는 주로 등록 공보에 references cited로 기재되기 때문)

* 최초 거절 OA 발생일 : 특정 특허를 심사하는 심사관이, 특정 선행 특허를 인용하며, 특허 거절에 대한 office action(OA)를 통지하는 경우, 최초로 거절 OA 통지가 발생한 날짜. 심사관은 특정 선행 특허를 인요하며, 1차례 이상의 non-final rejection 또는 final rejection을 통지할 수 있음.

* Assignment 실행일 : 미국에서의 assignment는 실행일(execution date)과 기록일(record date)이 있음. 실행을 통해서 assignment의 법률적 효력이 발생하므로, 실행일을 기준으로 함. (참고)미국을 제외한 다른 나라는 실행일의 개념이 없어, 특허청에 기록된 날을 기준으로 함.

PatentPia가 제공하는 상세한 데이터에 대해서는 [링크]를 클릭해 보세요. 이곳에서는 i) 기반 특허 데이터, ii) 특허 이벤트 데이터, iii) 가공 특허 데이터, iv) Entity(권리자, 발명자, 대리인 등) 데이터, v) 키워드 데이터, vi) 계층형 카테고리 데이터, vii) 특별한 특허 데이터 등 다양한 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

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