디이엔티(DENT)는 이차전지 레이저 노칭 장비를 전문적으로 생산하는 국내 선도 기업입니다. 디이엔티는 배터리 제조 공정에서 중요한 역할을 하는 레이저 노칭 기술을 개발하고, 이를 양극과 음극 공정에 적용함으로써 배터리 생산의 효율성과 정밀도를 높이는 데 기여하고 있습니다. 특히, 디이엔티는 지속적인 기술 혁신과 개발을 통해 글로벌 시장에서 경쟁력을 강화하고 있습니다.

최근 디이엔티는 LG에너지솔루션과 일본 완성차 업체 혼다의 합작법인인 L-H 배터리 컴퍼니로부터 총 874억 원 규모의 레이저 노칭 장비를 수주했습니다. 이 중 741억 원 규모의 수주는 음극 레이저 노칭 장비로, 디이엔티가 음극 분야까지 기술을 확장한 첫 사례입니다. 이 장비는 LG에너지솔루션과 혼다가 미국 오하이오주에 구축하는 전기차 배터리 공장에 공급될 예정이며, 초도 물량은 2023년 8월 10일까지, 이후 물량은 2026년 3월 15일까지 순차적으로 출하될 예정입니다. 이러한 성과는 디이엔티의 기술력과 시장 내 입지를 확고히 하는 중요한 전환점이 될 것입니다.

또한, 디이엔티는 지속적인 연구개발(R&D) 투자를 통해 레이저 노칭 기술의 적용 범위를 넓혀가고 있습니다. 최근에는 유지부(활물질이 도포된 부분) 레이저 노칭 장비와 전고체 배터리 제조 장비 개발에도 박차를 가하고 있으며, 이러한 노력은 디이엔티가 미래 배터리 시장에서도 선도적인 위치를 유지하는 데 큰 도움이 될 것입니다.

이 보고서에서는 디이엔티의 기술적 우수성과 경쟁력을 뒷받침하는 다양한 특허들을 분석하고자 합니다. 이를 통해 디이엔티의 혁신적인 기술 개발 동향과 미래 성장 가능성을 조명하며, 기업의 전략적 방향성을 파악하는 데 기여할 것입니다. 디이엔티가 보유한 특허들을 심층 분석함으로써, 그들이 어떻게 배터리 제조 공정에서 기술적 우위를 확보하고 있는지 살펴보겠습니다.

디이엔티의 KR 특허 포트폴리오 구축 동향을 분석합니다. 포트폴리오에는 i) 특허 출원 및 ii) 특허권 점유율 등이 있습니다.

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디이엔티 보유 KR 특허에 대한 출원-공개 동향을 분석합니다.

이 기업의 전체 공개 특허수는 157건입니다. 이 기업의 전체 공개 특허수는 최근 11년 이전에 89건, 최근 11년 동안에는 68건으로 총 157건을 보이며, 2021년에 16건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 4건, 2년 전인 2022년에는 8건을 보입니다.

디이엔티 보유 KR 특허에서 출현 회수가 최근 급성장하고 있는 키워드 중, 가공-처리 관련 급성장 키워드 동향을 분석합니다.

공개 특허수가 많은 급성장 키워드에는 1위 3D 프린터(3D printer), 2위 금속 분말(metal powder), 3위 전극필름(electrode film) 등이 있습니다.

3D 프린터(3D printer)의 공개 특허수는 11건입니다. 3D 프린터(3D printer)의 공개 특허수는 2019년에 2건으로 최초 발생하여, 2022년에 3건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 2건, 2년 전인 2022년에는 3건을 보입니다.

금속 분말(metal powder)의 공개 특허수는 6건입니다. 금속 분말(metal powder)의 공개 특허수는 2021년에 1건으로 최초 발생하여, 2022년에 3건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 2건, 2년 전인 2022년에는 3건을 보입니다.

링크를 클릭하면 나타나는 키워드 분석 웹 화면에서, '키워드 분류'에 대한 2 depth 필터를 사용하여 더욱 더 세분화된 가공-처리 관련 급성장 키워드 동향을 확인할 수 있습니다.

디이엔티 소속 핵심 연구자별로, 그 연구자 발명 KR 특허의 기술 경쟁력을 주요 특허 지표를 기준으로 비교합니다. 특허 지표에는 특허 출원-공개나 등록과 같은 i) 양적 지표, 심사관 피인용과 같은 ii) 기술 영향력 지표, 거절시킨 후행-후속 특허수와 같은 iii) 기술 리더십 지표 등이 있습니다.

주요 핵심 연구자에는 1위 임대균, 2위 허경철, 3위 김영수 등이 있습니다.
또한 임대균은 발명 특허수(공개 특허수)(10건), 공개 특허수 점유율(점유율_공개)(6.49%), 허경철은 등록 특허수(8건), 심재신은 심사관 피인용수(19회), 송왕규는 해외 특허 패밀리수(해외 Fam.)(6개)에서 1위 입니다. 최영섭은 등록 특허수(7건)에서 2위 입니다. 김영수는 발명 특허수(공개 특허수)(9건), 공개 특허수 점유율(점유율_공개)(5.84%), 배기선은 심사관 피인용수(9회), 김동현은 해외 특허 패밀리수(해외 Fam.)(5개)에서 3위 입니다. 김현수는 발명 특허수(공개 특허수)(8건), 공개 특허수 점유율(점유율_공개)(5.19%)에서 4위 입니다.

개별 연구별 분석 데이터는 링크를 클릭하면 제공되는 웹 페이지에서 개별 연구자 이름을 클릭하여 확인할 수 있습니다.

디이엔티의 보유 KR 특허 중 주요 특허를 분석합니다. 주요 특허에는 i) 분쟁에 사용된 특허, ii) 인용을 많이 받은 특허, iii) 최신 공개 특허 등이 있습니다.

디이엔티 보유 KR 특허 중 최신 특허를 분석합니다.

본 보고서에서는 디이엔티(DENT)의 특허 포트폴리오를 심층적으로 분석하였습니다. 디이엔티는 이차전지 레이저 노칭 장비의 선도 기업으로서, 특히 양극과 음극 레이저 노칭 장비에 대한 독보적인 기술력을 보유하고 있습니다. 디이엔티의 특허 출원-공개 동향을 살펴보면, 최근 11년 동안 68건의 특허가 공개되었으며, 전체 공개 특허수는 157건에 이릅니다. 2021년에는 16건의 최고 공개 특허수를 기록하였고, 2023년에는 4건, 2024년에는 현재까지 0건이 공개되었습니다.

또한, 가공-처리 관련 급성장 키워드 동향 분석에서는 '3D 프린터(3D printer)'와 '금속 분말(metal powder)', '전극 필름(electrode film)' 등의 키워드가 주목받고 있음을 확인하였습니다. 특히, 3D 프린터 관련 특허는 2019년에 처음 출원되어 2022년에 최고치인 3건을 기록하였으며, 금속 분말 관련 특허는 2021년에 처음 출원되어 2022년에 최고치인 3건을 기록하였습니다. 또한, 노칭 장치(notching device), 레이저 노칭(laser notching) 등의 키워드들도 올라오고 있는 것을 확인할 수 있습니다

디이엔티의 핵심 연구자 분석 결과, 임대균 연구원이 발명 특허수(10건)와 공개 특허수 점유율(6.49%)에서 1위를 차지하였으며, 허경철 연구원은 등록 특허수(8건)에서, 송왕규 연구원은 해외 특허 패밀리수(6개)에서 1위를 기록하였습니다.

마지막으로, 디이엔티의 최신 특허 분석에서는 2021년 이후 출원된 다양한 기술 특허들이 포함되어 있습니다. 주요 특허로는 '3D 프린터용 분말 공급장치', '압력 센서를 구비한 캐패시턴스 기반 토양 습도 측정기', '가공속도가 향상된 레이저 노칭장치' 등이 있습니다. 이러한 최신 특허들은 디이엔티의 지속적인 기술 혁신과 시장 확장을 뒷받침하는 중요한 자산입니다.

본 보고서를 통해 디이엔티의 특허 포트폴리오와 기술 경쟁력을 종합적으로 분석함으로써, 디이엔티가 배터리 제조 공정에서 기술적 우위를 확보하고 있는 방법을 확인할 수 있었습니다. 디이엔티는 지속적인 연구개발과 특허 전략을 통해 글로벌 시장에서의 경쟁력을 더욱 강화해 나갈 것으로 기대됩니다.

디이엔티에 이해 관계가 있는 기업의 내부 기능 조직용 질문
1) [기술 전략 조직]/[IP 조직] 디이엔티의 각종 특허 동향을 i) 객관적으로 분석하고, ii) 의사 결정자와 관련된 내부 기능 조직에게 전달하여, iii) 우리 회사를 위해 전략적으로 활용해야 하지 않을까요?
2) [IP 조직]/[기술 전략 조직] 디이엔티의 특별한 행위(특허 매입, 라이센싱 인 등의 전략적 투자 행위나 소송/심판 등의 분쟁 행위)와 관련된 동향을 인지-분석해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 디이엔티에 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 이 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.

본 제안에 관심 있는 기술 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

기업의 내부 기능 조직의 관점에서 특허 분석 데이터를 어떻게 활용해야 할 지에 대해서는 다음 링크를 클릭해 주세요.

디이엔티에 관심 있는 (잠재적) 투자자
1) 디이엔티에 대한 여러분의 투자에, 이 기업의 최근 특허 매입, M&A를 통한 특허 이전, 라이센싱 등과 객관적인 기술 투자 데이터를 참조해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 그 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.
2) 디이엔티가 보유하고 있는 특허가, i) 후속 특허에 의해 많이 인용되고 있는지(기술 영향력), ii) 후속 특허를 거절하는데 다수 사용되고 있는 지(기술 리더십)를 통해서, 이 기업의 기술 역량을 분석해 보세요. 특히, 이러한 동향이 최근에 빠르게 증가하고 있는지도 확인하세요.
3) 디이엔티 보유 특허의 i) 특허당 심사관 피인용수, ii) 특허당 거절시키는 후행 특허수 등으로, 이 기업의 특허 포트폴리오가 강력한 지를 확인해 보세요.

본 제안에 관심 있는 투자 관련 기업이나 기관은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

디이엔티가 고객이거나 고객의 경쟁 기업인 서비스 기업은,
1) 고객을 위하여, 심도 있는 맞춤형 데이터 분석을 제공해 주고, 추가적인 매출을 일으켜야 하지 않을까요?
2) 고급 분석 콘텐츠를 저렴한 총비용으로 제작하여, 신규 고객을 발굴하는데 활용해야 하지 않을까요?
3) IP 서비스 기업은 차별화된 IP 콘텐츠로, 추가적인 수익원의 발굴이나, 고객 제안을 해야 하지 않을까요?
4) 고객별 맞춤화된 콘텐츠를 극히 저렴하게 생성하여, 주기적/비주기적으로 고객에게 전달하여, 고객과의 커뮤니케이션을 확대해야 하지 않을까요?

본 제안에 관심 있는 서비스 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

디이엔티에 관심 있는 미디어
1) 디이엔티에 대한 객관성 높은 특허 기술 동향 데이터를 활용하여, 자신의 콘텐츠를 고급화, 전문화, 세분화할 필요가 있지 않을까요?
2) 디이엔티의 특허와 관련된 M&A/투자, 특허 매입, 라이센싱, 소송/심판 등의 이벤트 데이터를 활용하여, 경쟁자들의 콘텐츠와 차별화를 해야 하지 않을까요?
3) 디이엔티 보유 특허 포트폴리오의 i) 심사관 피인용수, ii) 거절시킨 후행 특허수 등과 같은 계량 지표를 통하여, 이 기업에 대한 여러분의 콘텐츠를 차별화해 보세요.

본 제안에 관심 있는 미디어 업계 종사자는 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

분석 지표에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 지표 계열에는 특허 출원-공개 및 등록을 중심으로 하는 i) 특허 포트폴리오 지표 계열, 피인용(forward citations)을 중심으로 하는 ii) 기술 영향력 계열, 거절(rejection)을 중심으로 하는 iii) 기술 리더쉽 계열, iv) 품질 계열, v) 점유율, 집중률 등과 같은 비율 계열, vi) 특허당 등과 같은 밀도 계열 등이 있습니다.

분석 기준에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 기준에는 i) 분석 방법론, ii) 분석 기준 체계, iii) 분석 집계값의 종류, iv) 분석 시간 기준 등이 있습니다. 중요 분석 기준에는 i) 현재 권리자의 확정, ii) 기술 분야에 대한 인식(기술 분야 vs. 특허셋(patent set) 맵핑 등), iii) 기술 분야나 키워드 표현에 대한 기준, iii) 특허 매입/거래, 소송/심판 등에 대한 기준과 범위, iv) 인용-피인용에 대한 기준과 범위 등이 있습니다.

분석 콘텐츠 제작에 사용된 데이터의 i) 공간(국가의 특허청), ii) 시간 범위 및, iii) 주요 데이터에 대한 원천 소스(original source)는 다음과 같습니다. 분석 콘텐츠를 구성하는 2차적인 데이터(예, 특허 거래 네트워크 등)는 원천 데이터 소스로부터 가공되어 생성됩니다. 개별적인 데이터에 대한 상세한 것은 [링크]를 참조하세요. 링크에 연결되는 페이지에서는 데이터 계열, 데이터 내용 및 기타 분속 콘텐츠에 사용되는 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

*최초 공개일 : 특허 공보가 최초로 발행된 날짜. 공개 공보가 발행되면 공개 공보 발행일, 공개 공보 발행 없이 등록된 경우에는 등록 공보 발행일.

*최근 공개일 : 선행 특허를 인용하는 후행 특허 공보의 최근 발행 날짜. 공개 공보 발행일과 등록 공보 발행일 중 늦은 날짜(인용 관계는 주로 등록 공보에 references cited로 기재되기 때문)

* 최초 거절 OA 발생일 : 특정 특허를 심사하는 심사관이, 특정 선행 특허를 인용하며, 특허 거절에 대한 office action(OA)를 통지하는 경우, 최초로 거절 OA 통지가 발생한 날짜. 심사관은 특정 선행 특허를 인요하며, 1차례 이상의 non-final rejection 또는 final rejection을 통지할 수 있음.

* Assignment 실행일 : 미국에서의 assignment는 실행일(execution date)과 기록일(record date)이 있음. 실행을 통해서 assignment의 법률적 효력이 발생하므로, 실행일을 기준으로 함. (참고)미국을 제외한 다른 나라는 실행일의 개념이 없어, 특허청에 기록된 날을 기준으로 함.

PatentPia가 제공하는 상세한 데이터에 대해서는 [링크]를 클릭해 보세요. 이곳에서는 i) 기반 특허 데이터, ii) 특허 이벤트 데이터, iii) 가공 특허 데이터, iv) Entity(권리자, 발명자, 대리인 등) 데이터, v) 키워드 데이터, vi) 계층형 카테고리 데이터, vii) 특별한 특허 데이터 등 다양한 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

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