이노메트리는 2008년에 설립된 이차전지 검사 장비 전문 제조업체로, 전기차 배터리 내부의 결함을 비파괴 방식으로 검사하는 혁신적인 기술을 보유하고 있습니다. 이노메트리는 초기부터 엑스레이 전극정렬검사와 간극검사 장비를 중심으로 시장에 진출하여, 삼성SDI, LG에너지솔루션, SK온 등 국내 주요 배터리 제조사뿐만 아니라 스웨덴의 노스볼트 등 해외 고객사들에게도 장비를 공급하며, 글로벌 시장에서의 입지를 확고히 다졌습니다. 이러한 기술력은 배터리 제조 공정에서 중요한 역할을 하며, 특히 전기차 시장의 성장과 함께 더욱 주목받고 있습니다.

최근 이노메트리는 인공지능(AI) 기술을 접목한 검사 장비 고도화와 신규 검사항목 개발을 통해 기술 경쟁력을 강화하고 있습니다. 2024년에는 석·박사급 고급 인력을 대폭 확충하고, AI와 플랫폼 개발 등 새로운 사업 영역을 추가하여 AI 기반 배터리 검사 솔루션을 고도화할 계획입니다. 이노메트리는 AI 기술을 통해 검사 장비의 정확성과 효율성을 높이고 있으며, 이러한 노력은 이차전지 검사 장비 분야에서 글로벌 톱레벨의 기술력을 확보하려는 목표를 가지고 있습니다. 또한, 회사는 AI 기술의 중요성을 인식하고 이를 통해 새로운 시장을 개척하려는 전략을 추진하고 있습니다​ (전자신문).

2024년 7월 17일, 이노메트리는 이물검사장비와 3D CT검사장비 등 신규 검사장비의 누적 수주액이 1000억원을 돌파했다고 발표했습니다 (전자신문). 이 회사는 올해 6월 말까지 약 3500억원 규모의 검사장비를 수주했으며, 이 중 엑스레이 전극정렬검사 및 간극검사장비 수주액은 약 2400억원, 신규 검사장비인 이물검사장비와 3D CT검사장비 수주는 각각 720억원과 380억원을 기록했습니다. 이노메트리는 이차전지 검사장비 사업을 본격화한 이후 지속적으로 성장하고 있으며, 신규 검사장비의 수주액 비중이 급증하여 전체 검사장비 대비 비중이 2022년 45%에서 72%까지 상승했습니다. 이노메트리의 이러한 성과는 다양한 검사 장비 라인업을 통해 고객사의 다양한 요구를 충족시킨 결과로 평가되고 있습니다​.

이노메트리의 성공적인 수주 실적과 기술력 증대는 특허 출원을 통한 기술 보호와 혁신에도 큰 영향을 미치고 있습니다. 특허는 기술적 경쟁력을 확보하고, 시장에서의 독점적 지위를 유지하는 데 중요한 역할을 합니다. 이노메트리는 다양한 검사 장비 기술에 대한 특허를 출원하고 있으며, 이를 통해 경쟁사와의 기술 격차를 유지하고 있습니다. 본 보고서에서는 이노메트리의 특허 동향을 분석하여, 이 회사의 기술적 경쟁력과 향후 성장 가능성을 평가하고자 합니다. 이를 통해 이노메트리의 기술적 우위가 어떻게 시장에서 실질적인 성과로 이어지고 있는지, 그리고 그 배경이 되는 특허 전략을 살펴보겠습니다.

이노메트리의 특허 동향을 분석하는 것은 이 회사가 어떻게 혁신을 통해 시장에서의 지위를 강화하고 있는지를 이해하는 데 중요한 단서를 제공합니다. 특허 출원 및 등록 현황을 통해 이노메트리의 연구개발 방향과 기술적 초점을 파악할 수 있으며, 이를 통해 향후 기술 발전과 시장 확대 가능성을 예측할 수 있습니다. 따라서 본 보고서는 이노메트리의 특허 전략을 중심으로, 기술적 혁신이 회사의 성과에 어떻게 기여하고 있는지를 다각적으로 분석할 것입니다.

이노메트리의 KR 특허 포트폴리오 구축 동향을 분석합니다. 포트폴리오에는 i) 특허 출원 및 ii) 특허권 점유율 등이 있습니다.

이노메트리 보유 KR 특허에 대한 출원-공개 동향을 분석합니다.

이 기업의 전체 공개 특허수는 25건입니다. 이 기업의 전체 공개 특허수는 최근 11년 이전에 4건, 최근 11년 동안에는 21건으로 총 25건을 보이며, 2019년에 8건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 2건, 2년 전인 2022년에는 3건을 보입니다.

이노메트리 보유 KR 특허를 피인용(forward citation)하는 i) 후행 특허 보유 기업과 이노메트리 보유 KR 특허가 인용(reference)하는 ii) 선행 특허 보유 기업을 분석합니다.

이노메트리 보유 KR 특허를 피인용(forward citation)하는 후행 특허 보유 기업을 분석합니다. 피인용이 많거나, 최근 들어 급증하는 후행 특허 보유 기업은 이노메트리 보유 특허 포트폴리오에 취약성이 높다고 볼 수 있습니다.

이 기업 보유 선행 특허가 받은 심사관 피인용수가 많은 관련 기업에는 1위 원익피앤이(5회), 2위 에스에이치엘(2회), 3위 에스에프에이(2회) 등이 있습니다.

원익피앤이의 심사관 피인용수는 5회입니다. 원익피앤이의 심사관 피인용수는 2021년에 5회로 최초 발생하여, 2021년에 5회의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0회, 1년 전인 2023년에는 0회, 2년 전인 2022년에는 0회를 보입니다.

에스에이치엘의 심사관 피인용수는 2회입니다. 에스에이치엘의 심사관 피인용수는 2021년에 1회로 최초 발생하여, 2021년에 1회의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0회, 1년 전인 2023년에는 1회, 2년 전인 2022년에는 0회를 보입니다.

이노메트리 보유 KR 특허에서 출현 회수가 최근 급성장하고 있는 키워드 중, 제품-부품 관련 급성장 키워드 동향을 분석합니다.

공개 특허수가 많은 급성장 키워드에는 1위 베이스 전극판(base electrode plate), 2위 게이트 드라이버 IC(gate driver IC), 3위 고정 전극판(fixed electrode plate) 등이 있습니다.

베이스 전극판(base electrode plate)의 공개 특허수는 3건입니다. 베이스 전극판(base electrode plate)의 공개 특허수는 2020년에 1건으로 최초 발생하여, 2022년에 2건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 0건, 2년 전인 2022년에는 2건을 보입니다.

게이트 드라이버 IC(gate driver IC)의 공개 특허수는 2건입니다. 게이트 드라이버 IC(gate driver IC)의 공개 특허수는 2023년에 2건으로 최초 발생하여, 2023년에 2건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 2건, 2년 전인 2022년에는 0건을 보입니다.

링크를 클릭하면 나타나는 키워드 분석 웹 화면에서, '키워드 분류'에 대한 2 depth 필터를 사용하여 더욱 더 세분화된 제품-부품 관련 급성장 키워드 동향을 확인할 수 있습니다.

이노메트리 보유 KR 특허에서 출현 회수가 최근 급성장하고 있는 키워드 중, 소재-물질 관련 급성장 키워드 동향을 분석합니다.

공개 특허수가 많은 급성장 키워드에는 1위 분리막(separation membrane), 2위 이차 전지 분리막(secondary battery separator), 3위 고정막(stationary membrane) 등이 있습니다.

분리막(separation membrane)의 공개 특허수는 4건입니다. 분리막(separation membrane)의 공개 특허수는 2020년에 1건으로 최초 발생하여, 2022년에 2건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 0건, 2년 전인 2022년에는 2건을 보입니다.

이차 전지 분리막(secondary battery separator)의 공개 특허수는 2건입니다. 이차 전지 분리막(secondary battery separator)의 공개 특허수는 2022년에 2건으로 최초 발생하여, 2022년에 2건의 최고값을 보입니다. 그리고, 이 값은 이번 연도인 2024년에는 0건, 1년 전인 2023년에는 0건, 2년 전인 2022년에는 2건을 보입니다.

링크를 클릭하면 나타나는 키워드 분석 웹 화면에서, '키워드 분류'에 대한 2 depth 필터를 사용하여 더욱 더 세분화된 소재-물질 관련 급성장 키워드 동향을 확인할 수 있습니다.

이노메트리의 보유 KR 특허 중 주요 특허를 분석합니다. 주요 특허에는 i) 분쟁에 사용된 특허, ii) 인용을 많이 받은 특허, iii) 최신 공개 특허 등이 있습니다.

이노메트리 보유 KR 특허 중 최신 특허를 분석합니다.

이노메트리의 특허 포트폴리오 구축과 출원-공개 동향을 분석한 결과, 이 회사가 기술적 경쟁력을 확보하기 위해 꾸준히 노력해왔음을 확인할 수 있었습니다. 이노메트리는 2024년 1월 1일 기준으로 총 25건의 KR 특허를 보유하고 있으며, 이 중 21건은 최근 11년 동안 출원된 것입니다. 특히, 2019년에 8건의 최고 출원 수치를 기록했고, 최근 2023년과 2024년에도 각각 2건과 0건의 특허가 출원되었습니다. 이는 이노메트리가 지속적으로 기술 개발과 특허 출원에 집중하고 있음을 보여줍니다.

피인용 특허 분석에서는 이노메트리의 특허가 원익피앤이, 에스에이치엘, 에스에프에이 등의 후행 특허에 의해 다수 인용되고 있음을 확인했습니다. 원익피앤이는 2021년에 5회의 최고값을 기록하며 이노메트리의 기술적 영향을 많이 받은 기업 중 하나로 나타났습니다. 이는 이노메트리의 특허가 후속 연구와 기술 개발에 중요한 기여를 하고 있음을 의미합니다. 또한, 에스에이치엘과 에스에프에이도 각각 2회의 인용 수치를 기록하며 이노메트리의 기술적 영향력을 입증하고 있습니다.

이노메트리의 특허 포트폴리오에는 제품-부품 관련 키워드와 소재-물질 관련 키워드에서 최근 급성장하고 있는 키워드들이 포함되어 있습니다. 예를 들어, '베이스 전극판', '게이트 드라이버 IC', '분리막', '이차 전지 분리막' 등이 있습니다. '베이스 전극판'은 2020년에 최초 출원된 이후 2022년에 2건의 최고값을 기록하였고, '게이트 드라이버 IC'는 2023년에 2건이 출원되었습니다. 이와 같은 키워드들은 이노메트리의 연구개발 방향과 기술적 초점을 보여주며, 회사가 시장의 요구에 맞추어 기술을 발전시키고 있음을 시사합니다.

특히, 소재-물질 관련 키워드 중 '분리막'은 2020년에 최초 출원된 이후 2022년에 2건의 최고값을 기록하였고, '이차 전지 분리막'도 2022년에 2건이 출원되었습니다. 이는 이노메트리가 배터리 성능 향상과 안전성 확보를 위한 핵심 소재 기술에 집중하고 있음을 나타냅니다. 이러한 특허 출원은 이노메트리가 기술적 우위를 유지하고 경쟁사와의 차별화를 이루는 데 중요한 역할을 합니다.

결론적으로, 이노메트리는 AI 기반 기술 혁신과 적극적인 특허 출원 전략을 통해 이차전지 검사 장비 분야에서의 기술적 경쟁력을 강화하고 있습니다. 이노메트리의 특허 포트폴리오 분석 결과, 이 회사는 제품-부품 및 소재-물질 관련 기술에서 두드러진 성장을 보이고 있으며, 이는 시장에서의 실질적인 성과로 이어지고 있습니다. 이러한 기술적 우위는 고객사의 다양한 요구를 충족시키고, 새로운 시장을 개척하는 데 중요한 역할을 할 것입니다. 앞으로도 지속적인 R&D 투자와 특허 포트폴리오 확대를 통해 글로벌 시장에서의 입지를 더욱 확고히 다질 것으로 전망됩니다. 이노메트리의 이러한 성장과 혁신은 기술적 진보와 시장 확장의 두 축에서 지속적으로 이루어질 것입니다. 이노메트리의 특허 전략은 회사의 경쟁력을 강화하는 데 핵심적인 역할을 하며, 미래에도 기술적 혁신과 시장 리더십을 유지할 수 있는 기반이 될 것입니다.

이노메트리에 이해 관계가 있는 기업의 내부 기능 조직용 질문
1) [기술 전략 조직]/[IP 조직] 이노메트리의 각종 특허 동향을 i) 객관적으로 분석하고, ii) 의사 결정자와 관련된 내부 기능 조직에게 전달하여, iii) 우리 회사를 위해 전략적으로 활용해야 하지 않을까요?
2) [IP 조직]/[기술 전략 조직] 이노메트리의 특별한 행위(특허 매입, 라이센싱 인 등의 전략적 투자 행위나 소송/심판 등의 분쟁 행위)와 관련된 동향을 인지-분석해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 이노메트리에 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 이 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.

본 제안에 관심 있는 기술 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

기업의 내부 기능 조직의 관점에서 특허 분석 데이터를 어떻게 활용해야 할 지에 대해서는 다음 링크를 클릭해 주세요.

이노메트리에 관심 있는 (잠재적) 투자자
1) 이노메트리에 대한 여러분의 투자에, 이 기업의 최근 특허 매입, M&A를 통한 특허 이전, 라이센싱 등과 객관적인 기술 투자 데이터를 참조해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 그 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.
2) 이노메트리가 보유하고 있는 특허가, i) 후속 특허에 의해 많이 인용되고 있는지(기술 영향력), ii) 후속 특허를 거절하는데 다수 사용되고 있는 지(기술 리더십)를 통해서, 이 기업의 기술 역량을 분석해 보세요. 특히, 이러한 동향이 최근에 빠르게 증가하고 있는지도 확인하세요.
3) 이노메트리 보유 특허의 i) 특허당 심사관 피인용수, ii) 특허당 거절시키는 후행 특허수 등으로, 이 기업의 특허 포트폴리오가 강력한 지를 확인해 보세요.

본 제안에 관심 있는 투자 관련 기업이나 기관은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

이노메트리가 고객이거나 고객의 경쟁 기업인 서비스 기업은,
1) 고객을 위하여, 심도 있는 맞춤형 데이터 분석을 제공해 주고, 추가적인 매출을 일으켜야 하지 않을까요?
2) 고급 분석 콘텐츠를 저렴한 총비용으로 제작하여, 신규 고객을 발굴하는데 활용해야 하지 않을까요?
3) IP 서비스 기업은 차별화된 IP 콘텐츠로, 추가적인 수익원의 발굴이나, 고객 제안을 해야 하지 않을까요?
4) 고객별 맞춤화된 콘텐츠를 극히 저렴하게 생성하여, 주기적/비주기적으로 고객에게 전달하여, 고객과의 커뮤니케이션을 확대해야 하지 않을까요?

본 제안에 관심 있는 서비스 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

이노메트리에 관심 있는 미디어
1) 이노메트리에 대한 객관성 높은 특허 기술 동향 데이터를 활용하여, 자신의 콘텐츠를 고급화, 전문화, 세분화할 필요가 있지 않을까요?
2) 이노메트리의 특허와 관련된 M&A/투자, 특허 매입, 라이센싱, 소송/심판 등의 이벤트 데이터를 활용하여, 경쟁자들의 콘텐츠와 차별화를 해야 하지 않을까요?
3) 이노메트리 보유 특허 포트폴리오의 i) 심사관 피인용수, ii) 거절시킨 후행 특허수 등과 같은 계량 지표를 통하여, 이 기업에 대한 여러분의 콘텐츠를 차별화해 보세요.

본 제안에 관심 있는 미디어 업계 종사자는 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

분석 지표에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 지표 계열에는 특허 출원-공개 및 등록을 중심으로 하는 i) 특허 포트폴리오 지표 계열, 피인용(forward citations)을 중심으로 하는 ii) 기술 영향력 계열, 거절(rejection)을 중심으로 하는 iii) 기술 리더쉽 계열, iv) 품질 계열, v) 점유율, 집중률 등과 같은 비율 계열, vi) 특허당 등과 같은 밀도 계열 등이 있습니다.

분석 기준에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 기준에는 i) 분석 방법론, ii) 분석 기준 체계, iii) 분석 집계값의 종류, iv) 분석 시간 기준 등이 있습니다. 중요 분석 기준에는 i) 현재 권리자의 확정, ii) 기술 분야에 대한 인식(기술 분야 vs. 특허셋(patent set) 맵핑 등), iii) 기술 분야나 키워드 표현에 대한 기준, iii) 특허 매입/거래, 소송/심판 등에 대한 기준과 범위, iv) 인용-피인용에 대한 기준과 범위 등이 있습니다.

분석 콘텐츠 제작에 사용된 데이터의 i) 공간(국가의 특허청), ii) 시간 범위 및, iii) 주요 데이터에 대한 원천 소스(original source)는 다음과 같습니다. 분석 콘텐츠를 구성하는 2차적인 데이터(예, 특허 거래 네트워크 등)는 원천 데이터 소스로부터 가공되어 생성됩니다. 개별적인 데이터에 대한 상세한 것은 [링크]를 참조하세요. 링크에 연결되는 페이지에서는 데이터 계열, 데이터 내용 및 기타 분속 콘텐츠에 사용되는 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

*최초 공개일 : 특허 공보가 최초로 발행된 날짜. 공개 공보가 발행되면 공개 공보 발행일, 공개 공보 발행 없이 등록된 경우에는 등록 공보 발행일.

*최근 공개일 : 선행 특허를 인용하는 후행 특허 공보의 최근 발행 날짜. 공개 공보 발행일과 등록 공보 발행일 중 늦은 날짜(인용 관계는 주로 등록 공보에 references cited로 기재되기 때문)

* 최초 거절 OA 발생일 : 특정 특허를 심사하는 심사관이, 특정 선행 특허를 인용하며, 특허 거절에 대한 office action(OA)를 통지하는 경우, 최초로 거절 OA 통지가 발생한 날짜. 심사관은 특정 선행 특허를 인요하며, 1차례 이상의 non-final rejection 또는 final rejection을 통지할 수 있음.

* Assignment 실행일 : 미국에서의 assignment는 실행일(execution date)과 기록일(record date)이 있음. 실행을 통해서 assignment의 법률적 효력이 발생하므로, 실행일을 기준으로 함. (참고)미국을 제외한 다른 나라는 실행일의 개념이 없어, 특허청에 기록된 날을 기준으로 함.

PatentPia가 제공하는 상세한 데이터에 대해서는 [링크]를 클릭해 보세요. 이곳에서는 i) 기반 특허 데이터, ii) 특허 이벤트 데이터, iii) 가공 특허 데이터, iv) Entity(권리자, 발명자, 대리인 등) 데이터, v) 키워드 데이터, vi) 계층형 카테고리 데이터, vii) 특별한 특허 데이터 등 다양한 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

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