반도체 산업의 끊임없는 발전은 우리 일상 속 기술 혁신의 원동력이 되어왔습니다. 그 중심에는 늘 더 작고 더 강력한 칩을 만들기 위한 노력이 있었고, 이는 극자외선(EUV) 리소그래피 기술의 등장으로 새로운 전기를 맞이하게 되었습니다. EUV 기술은 반도체 미세 공정의 핵심 요소로 자리 잡았지만, 이 혁신적인 기술을 실제 생산에 적용하기 위해서는 여러 가지 기술적 과제를 해결해야 했습니다.

그 중에서도 EUV 포토마스크를 보호하는 펠리클 기술은 특히 중요한 위치를 차지하고 있습니다. 한 장에 1억 원이 넘는 고가의 EUV 포토마스크를 오염으로부터 보호하고 사용 주기를 연장시키는 이 얇은 막은, 반도체 제조 공정의 효율성과 경제성을 크게 좌우합니다. 이러한 첨단 기술 분야에서 국내 기업들의 활약이 두드러지고 있는데, 특히 그래핀랩의 최근 행보가 주목받고 있습니다 (#전자신문).

그래핀랩은 2019년부터 EUV 펠리클 연구개발에 착수하여, 불과 3년 만에 90%에 육박하는 투과율이라는 놀라운 성과를 이뤄냈습니다. EUV 광원이 포토마스크에 온전히 도달하기 위해서는 펠리클의 높은 투과율이 필수적인데, 이는 곧 그래핀랩의 기술력이 세계적 수준에 도달했음을 의미합니다. 더욱이 최근에는 EUV 펠리클 제조를 위한 설비를 도입하고 시생산 준비에 나섰다는 소식이 전해져, 국내 반도체 산업 생태계에 새로운 활력을 불어넣고 있습니다.

이러한 기술 혁신의 과정에서 특허는 기업의 기술력과 미래 가치를 가늠할 수 있는 중요한 지표입니다. 그래핀랩이 EUV 펠리클 양산 기술과 관련하여 이미 국내 특허 등록을 완료했고, 4건의 주요 특허에 대한 해외 출원을 진행 중이라는 사실은, 이 기업의 기술력이 단순한 연구 단계를 넘어 실제 산업 현장에서의 적용을 목전에 두고 있음을 시사합니다. 이는 국내 반도체 산업의 경쟁력 강화뿐만 아니라, 글로벌 시장에서의 입지 확보에도 큰 도움이 될 것으로 전망됩니다.

반도체 기술의 발전 속도가 점점 더 빨라지는 가운데, EUV 펠리클과 같은 핵심 요소 기술의 중요성은 더욱 커지고 있습니다. 이러한 상황에서 그래핀랩의 특허 포트폴리오를 자세히 들여다보는 것은 매우 의미 있는 작업이 될 것입니다. 특허 분석을 통해 우리는 그래핀랩이 보유한 기술의 깊이와 범위, 그리고 미래 발전 가능성을 더욱 명확히 파악할 수 있을 것입니다.

그래핀랩의 특허 데이터는 EUV 펠리클 기술의 현재와 미래를 조망할 수 있는 중요한 창구입니다. 이를 통해 우리는 그래핀랩이 이 분야에서 차지하고 있는 위치뿐만 아니라, 국내 반도체 산업의 전반적인 경쟁력까지도 가늠해볼 수 있습니다. 특허는 단순한 기술적 성과를 넘어, 기업의 혁신 역량과 미래 성장 잠재력을 보여주는 중요한 지표입니다. 그래핀랩의 특허 포트폴리오를 면밀히 분석함으로써, 우리는 EUV 펠리클 기술의 발전 방향과 국내 반도체 산업의 미래를 더욱 선명하게 그려볼 수 있을 것입니다.

그래핀랩의 특허 출원-공개 동향은 회사의 기술 혁신 속도와 방향을 잘 보여주고 있습니다. 2018년에 최초로 특허가 공개된 이후, 2022년과 2023년에 각각 6건으로 정점을 찍은 것이 주목됩니다. 이는 EUV 펠리클 기술 개발에 착수한 2019년 이후 약 3년간의 집중적인 연구 개발 노력이 결실을 맺기 시작했음을 시사합니다.

특히 2022년과 2023년의 연속된 높은 공개 건수는 그래핀랩이 EUV 펠리클 기술에 대한 지속적이고 체계적인 연구 개발을 수행하고 있음을 보여줍니다. 이는 단순한 일회성 성과가 아닌, 장기적인 기술 개발 전략의 결과로 해석될 수 있습니다.

2024년 초반에 이미 1건의 특허가 공개된 점 또한 주목할 만합니다. 이는 그래핀랩이 기술 혁신의 속도를 늦추지 않고 있으며, 앞으로도 지속적인 특허 출원과 공개가 이어질 것임을 예측하게 합니다. 이러한 동향은 그래핀랩이 EUV 펠리클 시장에서의 경쟁력을 강화하고, 기술적 우위를 확보하기 위해 노력하고 있음을 잘 보여주고 있습니다.

그래핀랩의 특허 등록 동향은 회사의 기술력이 실제로 인정받고 있음을 보여주는 중요한 지표입니다. 2018년 최초 등록 이후, 2022년에 6건으로 급격히 증가한 점이 특히 눈에 띕니다. 이는 그래핀랩의 EUV 펠리클 기술이 특허성을 인정받아 실질적인 지적 재산권으로 확립되고 있음을 의미합니다.

2022년의 특허 등록 급증은 그래핀랩이 발표한 90% 투과율 달성 시기와 맞물려 있어, 기술적 성과와 특허 확보가 동시에 이루어지고 있음을 알 수 있습니다. 이는 그래핀랩의 연구 개발이 단순한 실험실 수준의 성과를 넘어, 산업적 가치를 인정받는 수준에 도달했음을 시사합니다.

2023년에는 2건의 추가 등록이 이루어져, 지속적인 기술 혁신과 특허 포트폴리오 확장이 이루어지고 있음을 보여줍니다. 이러한 꾸준한 특허 등록은 그래핀랩이 EUV 펠리클 기술 분야에서 선도적 위치를 강화하고 있으며, 향후 시장에서의 경쟁력을 더욱 공고히 할 수 있는 기반을 마련하고 있음을 의미합니다.

이 표는 그래핀랩과 경쟁 기업들의 특허 기술 경쟁력을 다각도로 비교 분석하고 있습니다. 그래핀랩의 경우, 공개 특허수 17건, 등록 특허수 9건으로, 상대적으로 신생 기업임에도 불구하고 꾸준한 특허 활동을 보여주고 있습니다. 특히 주목할 점은 매입 특허가 1건 있다는 것인데, 이는 그래핀랩이 자체 개발 외에도 전략적인 기술 확보에 나서고 있음을 시사합니다.

심사관 피인용수가 1건으로 나타난 것은 그래핀랩의 특허가 아직 다른 특허의 심사 과정에서 많이 인용되지 않았음을 의미합니다. 그러나 이는 그래핀랩의 기술이 상대적으로 최신이며, 아직 시장에 완전히 확산되지 않았기 때문일 수 있습니다. 해외 패밀리 특허가 없다는 점은 현재까지 그래핀랩이 주로 국내 시장에 집중하고 있음을 보여줍니다.

경쟁 기업들과 비교해볼 때, 그래핀랩은 특허 수나 인용 수에서는 아직 상대적으로 낮은 위치에 있습니다. 그러나 이는 회사의 상대적 젊은 나이를 고려할 때 자연스러운 현상으로 볼 수 있으며, 오히려 짧은 기간 동안 이룬 성과로 볼 때 높은 성장 잠재력을 지니고 있다고 해석할 수 있습니다.

이 표는 그래핀랩의 특허에서 자주 등장하는 특화성 높은 키워드를 분석하고 있습니다. '그래핀(graphene)'이 가장 많이 등장하는 키워드로, 12건의 특허에서 나타나고 있습니다. 이는 그래핀랩의 핵심 기술이 그래핀 기반임을 명확히 보여줍니다. 특히 2018년 최초 출현 이후 꾸준히 등장하고 있어, 그래핀 기술에 대한 지속적인 연구개발이 이루어지고 있음을 알 수 있습니다.

'미세 금속 마스크(fine metal mask)'와 '그래핀 제조(manufacturing graphene)'가 각각 4건의 특허에서 등장하고 있는 점도 주목할 만합니다. 이는 그래핀랩이 단순히 그래핀 소재 개발에 그치지 않고, 이를 활용한 구체적인 응용 기술 개발에도 주력하고 있음을 시사합니다. 특히 미세 금속 마스크 관련 키워드들이 2022년부터 집중적으로 나타나고 있어, 최근 이 분야에 대한 연구개발이 활발히 이루어지고 있음을 알 수 있습니다.

'그래핀 박막(graphene thin film)'과 같은 키워드도 등장하고 있어, 그래핀랩이 EUV 펠리클 기술 개발에 필요한 다양한 세부 기술들을 확보하고 있음을 보여줍니다. 이러한 키워드 분석은 그래핀랩의 기술 개발 방향성과 집중 분야를 명확히 보여주며, 회사의 기술 전략을 이해하는 데 중요한 통찰을 제공합니다.

이 표는 그래핀랩이 보유한 가장 최신 특허들의 목록을 보여줍니다. 가장 최근에 등록된 특허는 2023년 12월 1일자의 '펠리클' 관련 특허입니다. 이는 그래핀랩이 EUV 펠리클 기술 개발에 지속적으로 주력하고 있음을 보여주는 중요한 지표입니다.

특허 목록을 살펴보면, 'EUV 펠리클' 외에도 '파인 메탈 마스크(FMM)', '그래핀 코팅', '박막 에칭' 등 다양한 기술 분야의 특허가 포함되어 있습니다. 이는 그래핀랩이 EUV 리소그래피 관련 기술을 폭넓게 개발하고 있음을 시사합니다. 특히 2022년에 집중적으로 특허가 출원되고 등록된 점이 눈에 띕니다. 이는 그래핀랩이 이 시기에 기술 개발에 박차를 가했음을 보여줍니다.

또한, 일부 특허가 공동 출원되어 있는 점도 주목할 만합니다. 예를 들어, '박막 에칭장치', '웨이퍼 지지장치', '박막시료 캐리어' 등의 특허는 그래핀랩과 개인(정재윤)이 공동으로 출원했습니다. 이는 그래핀랩이 외부 전문가와의 협력을 통해 기술 개발을 진행하고 있음을 시사하며, 이러한 개방적 혁신 전략이 기술 발전에 긍정적인 영향을 미칠 것으로 예상됩니다.

그래핀랩의 특허 동향과 기술 개발 현황을 종합적으로 분석한 결과, EUV 펠리클 기술 분야에서의 뚜렷한 성장과 잠재력을 확인할 수 있습니다. 2019년 EUV 펠리클 연구개발에 착수한 이후, 그래핀랩은 단기간에 괄목할 만한 성과를 이루어냈습니다. 특히 2022년과 2023년에 집중된 특허 출원 및 등록은 회사의 기술력이 실질적으로 인정받고 있음을 보여줍니다.

그래핀랩의 특허 포트폴리오는 양적 성장뿐만 아니라 질적인 면에서도 주목할 만한 특징을 보입니다. '그래핀', '미세 금속 마스크', '그래핀 제조' 등의 핵심 키워드를 중심으로 한 특허 출원은 회사가 EUV 펠리클 기술의 핵심 영역에 집중하고 있음을 나타냅니다. 또한, 최근의 특허들이 펠리클 제조 방법, 파인 메탈 마스크 제조 등 다양한 응용 기술을 포함하고 있어, 기술의 범위가 확장되고 있음을 알 수 있습니다.

그래핀랩의 이러한 성과는 국내 반도체 산업 생태계에 새로운 활력을 불어넣고 있습니다. 특히, 90%에 육박하는 EUV 펠리클 투과율 달성은 세계적 수준의 기술력을 입증하는 것으로, 향후 글로벌 시장에서의 경쟁력 확보에 큰 도움이 될 것으로 전망됩니다. 더불어, EUV 펠리클 제조를 위한 설비 도입과 시생산 준비는 기술의 상용화가 가시화되고 있음을 시사합니다.

그러나 글로벌 시장에서의 입지 확보를 위해서는 해결해야 할 과제도 있습니다. 현재까지 해외 패밀리 특허가 없다는 점은 그래핀랩이 주로 국내 시장에 집중하고 있음을 보여줍니다. 향후 글로벌 시장 진출을 위해서는 해외 특허 출원 및 등록에도 주력할 필요가 있습니다. 또한, 심사관 피인용수가 아직 낮은 점은 기술의 영향력이 시장에 완전히 반영되지 않았음을 의미할 수 있습니다.

이러한 상황에서 향후 전략적 방향성으로는 다음과 같은 접근이 필요할 것입니다. 먼저, 해외 시장 진출을 위한 특허 포트폴리오 강화가 필요합니다. 주요 반도체 생산국에서의 특허 출원 및 등록을 적극적으로 추진해야 합니다. 또한, 산학협력 및 오픈 이노베이션을 확대하여 기술 혁신의 속도를 높이고, EUV 펠리클 기술의 응용 범위를 확대해야 합니다. 생산 능력 확대와 품질 관리 시스템 구축, 기술 마케팅 및 브랜딩 강화도 중요한 과제입니다. 끊임없는 R&D 투자와 우수 인재 확보를 통해 기술 경쟁력을 유지하고, 이를 바탕으로 글로벌 시장에서의 입지를 굳혀나가는 것이 필요합니다. 이러한 전략적 접근을 통해 그래핀랩은 한국 반도체 산업의 새로운 성장 동력으로 자리잡을 수 있을 것입니다.

그래핀랩은 한국 반도체 산업의 새로운 성장 동력으로 자리잡을 수 있는 잠재력을 가지고 있습니다. EUV 펠리클 기술은 반도체 제조 공정의 핵심 요소로, 이 분야에서의 기술 우위는 곧 글로벌 반도체 시장에서의 경쟁력으로 직결됩니다. 그래핀랩의 지속적인 기술 혁신과 전략적 성장은 한국 반도체 산업의 경쟁력 강화에 크게 기여할 것으로 기대됩니다. 앞으로의 과제는 이러한 기술력을 바탕으로 실제 시장에서의 성과로 연결시키는 것입니다. 그래핀랩의 향후 행보가 한국 반도체 산업의 미래를 밝히는 새로운 이정표가 되기를 기대해 봅니다.

그래핀랩에 이해 관계가 있는 기업의 내부 기능 조직용 질문
1) [기술 전략 조직]/[IP 조직] 그래핀랩의 각종 특허 동향을 i) 객관적으로 분석하고, ii) 의사 결정자와 관련된 내부 기능 조직에게 전달하여, iii) 우리 회사를 위해 전략적으로 활용해야 하지 않을까요?
2) [IP 조직]/[기술 전략 조직] 그래핀랩의 특별한 행위(특허 매입, 라이센싱 인 등의 전략적 투자 행위나 소송/심판 등의 분쟁 행위)와 관련된 동향을 인지-분석해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 그래핀랩에 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 이 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.

기업의 내부 기능 조직의 관점에서 특허 분석 데이터를 어떻게 활용해야 할 지에 대해서는 다음 링크를 클릭해 주세요.

본 제안에 관심 있는 기술 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

그래핀랩에 관심 있는 (잠재적) 투자자
1) 그래핀랩에 대한 여러분의 투자에, 이 기업의 최근 특허 매입, M&A를 통한 특허 이전, 라이센싱 등과 객관적인 기술 투자 데이터를 참조해야 하지 않을까요? 특허 매입 등은 전략적으로 아주 중요한 기술 투자 행위입니다. 그리고, 매입된 특허에 포함된 기술, 부품, 소재/물질, 기능/작용, 컨셉 등은 그 기업의 미래 제품/서비스에 반영될 가능성이 아주 높습니다.
2) 그래핀랩가 보유하고 있는 특허가, i) 후속 특허에 의해 많이 인용되고 있는지(기술 영향력), ii) 후속 특허를 거절하는데 다수 사용되고 있는 지(기술 리더십)를 통해서, 이 기업의 기술 역량을 분석해 보세요. 특히, 이러한 동향이 최근에 빠르게 증가하고 있는지도 확인하세요.
3) 그래핀랩 보유 특허의 i) 특허당 심사관 피인용수, ii) 특허당 거절시키는 후행 특허수 등으로, 이 기업의 특허 포트폴리오가 강력한 지를 확인해 보세요.

본 제안에 관심 있는 투자 관련 기업이나 기관은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

그래핀랩가 고객이거나 고객의 경쟁 기업인 서비스 기업은,
1) 고객을 위하여, 심도 있는 맞춤형 데이터 분석을 제공해 주고, 추가적인 매출을 일으켜야 하지 않을까요?
2) 고급 분석 콘텐츠를 저렴한 총비용으로 제작하여, 신규 고객을 발굴하는데 활용해야 하지 않을까요?
3) IP 서비스 기업은 차별화된 IP 콘텐츠로, 추가적인 수익원의 발굴이나, 고객 제안을 해야 하지 않을까요?
4) 고객별 맞춤화된 콘텐츠를 극히 저렴하게 생성하여, 주기적/비주기적으로 고객에게 전달하여, 고객과의 커뮤니케이션을 확대해야 하지 않을까요?

본 제안에 관심 있는 서비스 기업은 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

그래핀랩에 관심 있는 미디어
1) 그래핀랩에 대한 객관성 높은 특허 기술 동향 데이터를 활용하여, 자신의 콘텐츠를 고급화, 전문화, 세분화할 필요가 있지 않을까요?
2) 그래핀랩의 특허와 관련된 M&A/투자, 특허 매입, 라이센싱, 소송/심판 등의 이벤트 데이터를 활용하여, 경쟁자들의 콘텐츠와 차별화를 해야 하지 않을까요?
3) 그래핀랩 보유 특허 포트폴리오의 i) 심사관 피인용수, ii) 거절시킨 후행 특허수 등과 같은 계량 지표를 통하여, 이 기업에 대한 여러분의 콘텐츠를 차별화해 보세요.

본 제안에 관심 있는 미디어 업계 종사자는 contact@patentpia.com으로 연락 주십시오.

분석 지표에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 지표 계열에는 특허 출원-공개 및 등록을 중심으로 하는 i) 특허 포트폴리오 지표 계열, 피인용(forward citations)을 중심으로 하는 ii) 기술 영향력 계열, 거절(rejection)을 중심으로 하는 iii) 기술 리더쉽 계열, iv) 품질 계열, v) 점유율, 집중률 등과 같은 비율 계열, vi) 특허당 등과 같은 밀도 계열 등이 있습니다.

분석 기준에 대한 상세한 설명을 원하시는 분은 [링크]를 클릭하세요. 분석 기준에는 i) 분석 방법론, ii) 분석 기준 체계, iii) 분석 집계값의 종류, iv) 분석 시간 기준 등이 있습니다. 중요 분석 기준에는 i) 현재 권리자의 확정, ii) 기술 분야에 대한 인식(기술 분야 vs. 특허셋(patent set) 맵핑 등), iii) 기술 분야나 키워드 표현에 대한 기준, iii) 특허 매입/거래, 소송/심판 등에 대한 기준과 범위, iv) 인용-피인용에 대한 기준과 범위 등이 있습니다.

분석 콘텐츠 제작에 사용된 데이터의 i) 공간(국가의 특허청), ii) 시간 범위 및, iii) 주요 데이터에 대한 원천 소스(original source)는 다음과 같습니다. 분석 콘텐츠를 구성하는 2차적인 데이터(예, 특허 거래 네트워크 등)는 원천 데이터 소스로부터 가공되어 생성됩니다. 개별적인 데이터에 대한 상세한 것은 [링크]를 참조하세요. 링크에 연결되는 페이지에서는 데이터 계열, 데이터 내용 및 기타 분속 콘텐츠에 사용되는 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

*최초 공개일 : 특허 공보가 최초로 발행된 날짜. 공개 공보가 발행되면 공개 공보 발행일, 공개 공보 발행 없이 등록된 경우에는 등록 공보 발행일.

*최근 공개일 : 선행 특허를 인용하는 후행 특허 공보의 최근 발행 날짜. 공개 공보 발행일과 등록 공보 발행일 중 늦은 날짜(인용 관계는 주로 등록 공보에 references cited로 기재되기 때문)

* 최초 거절 OA 발생일 : 특정 특허를 심사하는 심사관이, 특정 선행 특허를 인용하며, 특허 거절에 대한 office action(OA)를 통지하는 경우, 최초로 거절 OA 통지가 발생한 날짜. 심사관은 특정 선행 특허를 인요하며, 1차례 이상의 non-final rejection 또는 final rejection을 통지할 수 있음.

* Assignment 실행일 : 미국에서의 assignment는 실행일(execution date)과 기록일(record date)이 있음. 실행을 통해서 assignment의 법률적 효력이 발생하므로, 실행일을 기준으로 함. (참고)미국을 제외한 다른 나라는 실행일의 개념이 없어, 특허청에 기록된 날을 기준으로 함.

PatentPia가 제공하는 상세한 데이터에 대해서는 [링크]를 클릭해 보세요. 이곳에서는 i) 기반 특허 데이터, ii) 특허 이벤트 데이터, iii) 가공 특허 데이터, iv) Entity(권리자, 발명자, 대리인 등) 데이터, v) 키워드 데이터, vi) 계층형 카테고리 데이터, vii) 특별한 특허 데이터 등 다양한 데이터에 대한 상세한 설명이 있습니다.

PatentPia는 본 콘텐츠 및 콘텐츠의 제작에 사용된 데이터의 정확성, 무결성, 완전성을 보증하지 않으며, 내용의 오류나 누락에 대한 일체의 법률적 책임을 지지 않습니다. 그리고, PatentPia는 본 보고서를 활용한 어떠한 의사 결정에 대해서도 일체의 법률적 책임을 지지 않습니다. 또한, PatentPia는 현재 또는 미래에 존재하는 어떠한 종류의 명시적, 묵시적인 법적 보증도 제공하지 않습니다.

본 콘텐츠 및 콘텐츠에 사용된 데이터에 대한 저작권은 CC(creative commons) 라이센스로 제공됩니다. 이에 따라, 본 콘텐츠 전체나 콘텐츠를 구성하는 표, 차트, 글이나, 사용된 데이터를 여러분의 의사에 따라 어떠한 형태나 방식으로 사용하거나, 제3자와 공유하거나, 유료 또는 무료의 활용도 허용됩니다. 그리고, 본 콘텐츠를 여러분의 목적에 따라 어떠한 형태 또는 방식으로 2차적 저작물을 만드는데 사용할 수 있으며, 그 2차적 저작물은 여러분의 소유입니다.

본 콘텐츠 또는 데이터에 대한 출처 표시에 대한 의무는 없습니다. 이에 따라, 출처 표시를 위해 PatentPia에 동의를 구할 필요는 없습니다. 다만, 출처 표시를 해 주시면, PatentPia는 여러분의 배려를 고맙게 생각하겠습니다.

PatentPia(www.patentpia.com)는 파트너십 요청을 수락합니다.

1) PatentPia 데이터/DB를 활용하여, 국내 또는 해외에서 비즈니스를 하려는 경우

2) PatentPia 데이터/DB를 활용하여, 콘텐츠나 AI를 개발하려는 경우

3) 기타 PatentPia와 제휴나 협력의 필요성이 있는 경우

1) PatentPia 보유 데이터/DB/AI 소개

2) PatentPia 솔루션에 대한 목적-조직 유형별 활용 체계

3) PatentPia 대표 솔루션에 대한 매뉴얼

(1) 분석 : GoldenCompass

(2) 개인화/관리 : My platform

(3) 특허셋(patent set) 실시간 분석 : Analytics

(4) 검색 : Search

무료 평가판 ID가 필요하시거나, PatentPia의 서비스 및 데이터베이스에 대해 궁금한 점이 있으면 아래의 이메일로 문의하십시오.

e-mail : contact@patentpia.com